产品中心
PRODUCTS CNTER氢氧化铝水性浆料分散机,是由胶体磨和分散机组合而成的设备,转速高达14000rpm,强大的剪切力。胶体磨磨头配合分散机分散盘,先研磨后分散。这种特殊的设计的优势在于,粒子细化之后容易出现絮凝现象,所以此时分散十分重要,而砂磨机难以分散。
相关文章
ARTICLES一、产品名称:氢氧化铝水性浆料分散机,氢氧化铝水性浆料高速分散机,氢氧化铝水性浆料纳米分散机,氢氧化铝水性浆料超细分散机,氢氧化铝浆料分散机
询价和技术问题请来电:李 () 公司有样机可供客户购前实验,欢迎广大客户来我司参观指导。
二、氢氧化铝的核心应用
氢氧化铝是用量zui大和应用zui广的无机阻燃添加剂。氢氧化铝作为阻燃剂不仅能阻燃,而且可以防止发烟、不产生滴下物、不产生有毒体,因此,获得较广泛的应用,使用量也在逐年增加。使用范围:热固性塑料、热塑性塑料、合成橡胶、涂料及建材等行业。同时,氢氧化铝也是电解铝行业所必需氟化铝的基础原料,在该行业氢氧化铝也是得到非常广泛应用。
三、氢氧化铝水性浆料简介
氢氧化铝水性浆料,将氢氧化铝粉末加入中水性,然后通过分散设备均匀稳定的分散后,得到高质量的氢氧化铝水性浆料,可广泛用于阻燃剂行业。
四、氢氧化铝水性浆料分散设备推荐
结合多家化工企业案例,我司推荐GMSD2000系列研磨式超高速分散机进行氢氧化铝的研磨和分散,一般可获得超细的物料粒径,一般为2μm左右。当然还要看具体的物料工艺,以及原始状态。
下图为氢氧化铝分散后的粒径分布,分散介质为水。供参考!
五、SGN氢氧化铝水性浆料分散机结构
,是由胶体磨和分散机组合而成的设备,转速高达14000rpm,强大的剪切力。胶体磨磨头配合分散机分散盘,先研磨后分散。这种特殊的设计的优势在于,粒子细化之后容易出现絮凝现象,所以此时分散十分重要,而砂磨机难以分散。
GMD2000系列研磨分散设备是SGN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变更为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)。
六、选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125
|
上海市嘉定区朱戴路900号