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纳米二氧化硅分散机是SGN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）。
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二、纳米二氧化硅性质及应用
纳米二氧化硅是极其重要的高科技超微细无机材料之一，因其粒径很小，比表面积大，表面吸附力强，表面能大，化学纯度高、分散性能好，热阻、电阻等方面具有特异的性能，以其*的稳定性、补强性、增稠性和触变性，在众多学科及领域内*特性，有着不可取代的作用。
纳米二氧化硅俗称“超微细白炭黑”，广泛用于各行业作为添加剂、催化剂载体，石油化工，脱色剂，消光剂，橡胶补强剂，塑料充填剂，油墨增稠剂，高级日用化妆品填料及喷涂材料、医药、环保等各领域。
询价和技术问题请来电：李 （） 公司有样机可供客户购前实验，欢迎广大客户来我司参观指导。
三、纳米二氧化硅分散应用及难点
纳米二氧化硅分散在多个领域都有着重要的应用，如：改性树脂，改性纺织材料，改性涂料，改性橡胶等等。改性的效果取决于分散的效果，粒径越小分散越均匀，分散效果就越好。SGN研磨分散机*的结构，全新的技术，专业应对于纳米级物料的分散，先研磨后分散，避免团聚，分散效果好。
对于纳米的物料分散一直是人们关注的热点，纳米分散存在着难以解决的问题，纳米物料分散到流体物质当中容易形成二级团聚体，导致物料粒径变大，难以分散。面对这种情况，SGN研发出新型设备-研磨分散机，应对纳米物质的分散问题。并有着广泛的实例，如纳米级白炭黑的分散，纳米级石墨烯的分散，都在使用SGN研磨分散机进行分散处理，*。
四、SGN纳米二氧化硅分散机结构
纳米分散设备是SGN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）。
*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。
五、SGN特点
①线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。
②定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
⑤高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
六、SGN选型表
研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
GMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD 2000/5 | 1000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD 2000/10 | 3000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD 2000/20 | 8000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD 2000/30 | 20000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 60000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 | |||||
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