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GMSD2000系列药物制剂高剪切胶体磨 混合设备

产品简介

GMSD2000系列药物制剂高剪切胶体磨
一、产品名称概述:药物制剂高剪切胶体磨,药物制剂超高速胶体磨药,物制剂纳米胶体磨,药物制剂胶体磨

产品型号:GMSD2000
更新时间:2023-06-23
厂商性质:生产厂家
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 GMSD2000系列药物制剂高剪切胶体磨

一、产品名称概述:药物制剂高剪切胶体磨,药物制剂超高速胶体磨药,物制剂纳米胶体磨,药物制剂胶体磨

二、药物制剂的定义

所谓药物制剂,从狭义上来讲,就是具体的按照一定形式制备的药物成品,如阿莫西林胶囊等。包括中药材、中药饮片、中成药、化学原料药及其制剂、生化药品、血清疫苗、血液制品和诊断药品等

三、药物制剂的分类

按形态分类

1.液体剂型(如溶液剂、注射剂等)

2.固体剂型(如片剂、胶囊剂等)

3.半固体剂型(如软膏剂、凝胶剂等)

4.气体剂型(如气雾剂、喷雾剂等)

按分散系统分类

1. 溶液型

2. 胶体溶液型

3. 乳状液型

4. 混悬液型

5. 气体分散型

6. 固体分散型 

三、药物制剂的生产工艺(以液体制剂为例)

将固体或液体药物在一定条件下溶解或分散在水、醇、脂肪油或甘油中,有时加入添加剂以增加药物的溶解度、分散度,增加产品的稳定性或改进其不良气味。对于这类液体制剂的一般要求是:溶液应澄明;乳剂或混悬剂应保证其分散相小而均匀;有效成分的浓度应准确、稳定;制剂应适口,无刺激性;包装容器应清洁或灭菌。

 

在生产药物制剂的过程中,工艺配方、添加剂等生产工艺是很重要的环节,好的配方才能制备号的制剂产品,而另一方面,特别是对于无法溶解的液体制剂类,需要选择高精度的分散设备进行药物的分散,保证药物能够分散悬浮到液体基质中去,根据我司多家客户案例,推荐GMS2000系列高速剪切胶体磨进行药物的研磨分散,如果对于液体制剂的体系要求更高,推荐GMSD2000系列超高速研磨分散机,根据具体需求,我司推荐性价比高的解决方案。

液体制剂混悬型的稳定在于使用的胶体磨的研磨性能,普通胶体磨转速3000rpm,研磨出来的悬浮液颗粒较粗,静置一段时间容易产生絮凝,影响药效和使用,极大限制了新型阿苯达唑混悬液的推广,上海思峻高剪切胶体磨GMS2000系列转速高达18000rpm,是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。
            
四、药物制剂胶体磨的简介


GMS2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。 经过GMS2000胶体磨研磨后的混悬液固体颗粒粒径80%小于10UM,分布范围极窄。 

  GMSD2000系列药物制剂高剪切胶体磨

     
五、SGN高剪切胶体磨的优点:

1、转速和剪切速率:

SGN胶体磨,可选择德国机械密封,转速可以达到15000转    

F=23/0.7X1000=32857 S-1  

F=40/0.7/X1000=57142 S-1                      

国内胶体磨,可选择机械密封一般3000转,大约在14293-215440 S-1

通过转速比较可知,这是乳粉碎研磨的重要因素,相当于前者是后者的2-3倍

2、胶体磨头和间距:

SGN胶体磨,可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三层乳化模块,超高速模块,GMS胶体模块,GMO胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块。

间距可调,可实现1-10微米小粒径材料加工

国内胶体磨,只有一种模块头,粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差

3、机械密封:

SGN胶体磨,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至,可24小时不停运转

国内胶体磨,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁

 

六、GMS2000系列高剪切胶体磨型号表

型号

流量L/H

转速rpm

线速度m/s

功率kw

入/出口连接DN

GMS2000/4

300

18000

51

4

DN25/DN15

GMS2000/5

1000

14000

51

11

DN40/DN32

GMS2000/10

2000

9200

51

22

DN80/DN65

GMS2000/20

5000

2850

51

37

DN80/DN65

GMS2000/30

8000

1420

51

55

DN150/DN125

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