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GMD2000/4 高新精细氧化镁纳米研磨分散机一、设备供应：高新精细氧化镁纳米研磨分散机,纳米医用级氧化镁乳化机,氧化镁纳米研磨分散机,氧化镁纳米分散均质设备
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ARTICLES一、设备供应：
高新精细氧化镁纳米研磨分散机,纳米医用级氧化镁乳化机,氧化镁纳米研磨分散机,氧化镁纳米分散均质设备
二、应用领域：
随着产业化升级及高新技术功能材料市场的需求和发展，研发生产出一系列高新精细氧化镁产品，主要用于高级润滑油、高级鞣革提碱级、食品级、医药级、硅钢级、高级电磁级、高纯氧化镁等近十个品种组成。
三、设备介说明：
SGN德国纳米医用级氧化镁研磨分散机在分散氧化镁时通过14000rpm超高的转速形成的*剪切力使物料在0.2-0.3mm极细的定转子间隙中形成每分钟数以 万次的撞击、破碎、撕裂，将原本抱团的纳米级氧化镁进一步的破碎，打开团块形成纳米级颗粒状，为防止被打碎的纳米级氧化镁颗粒再次抱团，我们在研 磨后又加了一级分散均质盘，对物料进行*的分散，阻止物料再进行二次抱团。氧化镁分散的越细越均一，对于后期做应用性能就越好！
GMD2000/4 高新精细氧化镁纳米研磨分散机
四、影响纳米材料分散要素：
1、分散介质
（1）根据粘度不同，分散介质分为高粘度、中粘度和低粘度三种。在低粘度介质中，如水和有机溶剂，纳米材料易于分散。中粘度介质如液态环氧树脂、液态硅橡胶等，高粘度介质如熔融态的塑料。
2、分散剂
（1）分散剂的选择，与分散介质的结构、极性、溶度参数等密切相关。
（2）分散剂的用量，与纳米材料比表面积和共价键修饰的功能基团有关。
（3）水性介质中，推荐使用TNWDIS。强极性有机溶剂中，如醇、DMF、NMP， 推荐使用TNADIS。
3、分散设备
上海SGN（思峻）机械设备有限公司专门应对纳米材料分散开发的高剪切三级分散机GMD2000系列适合大规模地分散纳米氧化铝，纳米氧化锌，纳米氧化铈，纳米氧化铁，纳米氧化铋，纳料ATO合金等产品。纳米金属粉体、碳纳米管、高纯Al2O3、高纯纳米TiO2系列粉体、超活性纳米TiO2催化剂、纳米TiO2液体、纳米TiO2银抗菌剂、纳米高纯ZrO2、超细高纯ZrO2、纳米涂层材料、纳米载银抗菌粉、纳米SiO2、纳米ZnO、光触媒、纳米三防整理剂等系列粉体、液体、制剂在中、低粘度介质里的分散。
高新精细氧化镁纳米研磨分散机是高效、快速、均匀地将一个相或多个相固体进入到另一互不相溶的连续相(通常液体)的过程的设备的设备。
当其中一种或者多种材料的细度达到微米数量级时，甚至纳米级时，体系可被认为均质。当外部能量输入时，两种物料重组成为均一相。高剪切均质机由于转子高速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能，使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等综合作用，形成悬浮液。高剪切均质机从而使不相溶的固相、液相、气相在相应熟工艺和适量添加剂的共同作用下，瞬间均匀精细的分散均质，经过高频管线式高剪切分散机的循环往复，得到稳定的高品质产品。
五、设备参数：
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
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