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GMD2000黑磷纳米片分散液分散机一、黑磷纳米片分散液分散机，新型二维半导体材料研磨分散机，黑磷纳米片分散液均质机，黑磷纳米片分散液混合机，黑磷纳米片分散液制备设备
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二、黑磷是黑色有金属光泽的晶体，是用白磷在很高压强和较高温度下转化而形成的。 黑磷在磷的同素异形体中反应活性很弱的，它在空气中不会点燃。
三、黑磷纳米片分散液特性及应用：
1.特性：
厚度：1-10层
片径：100 nm-5μm
浓度：0.2 mg/ml
2.应用：
1.半导体
2.场效应晶体管（FET）
3.各向异性
4.光电平台
5.透明电子
6.宽带偏振器
四、黑磷纳米片分散液的制备方法：
将黑磷块体浸入有机溶剂中，并进行搅拌，其中，所述搅拌的转速为8000-14000转/分，所述搅拌的时间为20-30h；再将上述搅拌后得到的溶液进行低速离心，收集上清液，并对所述上清液进行高速离心，去除上清液，收集固体沉淀，所述固体沉淀即大尺寸黑磷片。该方法操作简单、条件温和、价格低廉、重现性好、产量高，制备过程无需震荡、超声，易实现低成本产业化生产。所述大尺寸黑磷片的横向尺寸为5-25m，可应用于光电器件或传感器制备等领域。
针对黑鳞未来市场的应用前景，上海SGN/思峻公司结合德国核心技术研发出了新型黑磷纳米片分散液制备机械——SGN黑磷纳米片分散液分散机，该设备是由胶体磨和分散机组合而成的设备，转速高达14000rpm，拥有强大的剪切力。
五．SGN黑磷纳米片分散液分散机结构：
SGN分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。
一级由具有精细度递升的3级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满 足一个具体的应用。
GMD2000黑磷纳米片分散液分散机
六SGN研磨分散机选型表：
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150
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